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文献
J-GLOBAL ID：201302213894498208
整理番号：13A0811164
MC3-II/GPシステム,多電荷ビーム電流が増強された中電流イオン注入装置の導入
Introduction of the MC3-II/GP system, medium current ion implanter with enhanced multi-charge beam current
KOIKE Masazumi
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
SATO Fumiaki
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
SANO Makoto
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
KAWATSU Sho
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
KARIYA Hiroyuki
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
KIMURA Yasuhiko
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
KUDO Tetsuya
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
SHIRAISHI Miyuki
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
SHINOZUKA Masamitsu
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
TAKAHASHI Yuji
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
ISHIDA Yuji
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
TSUKIHARA Mitsukuni
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
UENO Kazuyoshi
(SEN Corp., Ehime, JPN)
,
SUGITANI Michiro
(SEN Corp., Ehime, JPN)
資料名：
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻： 1496 ページ： 336-339 発行年： 2012年
JST資料番号： D0071C ISSN： 0094-243X 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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