文献
J-GLOBAL ID:201302214076116070
整理番号:13A1087359
多孔質low-k膜内部および表面でのALD前駆体の化学吸着
Chemisorption of ALD precursors in and on porous low-k films
著者 (10件):
VERDONCK P.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
DELABIE A.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
SWERTS J.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
FARRELL L.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
BAKLANOV M.r.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
TIELENS H.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
VAN BESIEN E.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
WITTERS T.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
NYNS L.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
,
VAN ELSHOCHT S.
(imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, BEL)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
106
ページ:
81-84
発行年:
2013年06月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)