文献
J-GLOBAL ID:201302220199806844
整理番号:13A1087470
塩化コリン-マロン酸ディープ共晶溶媒(DES)を用いたエッチ後残渣除去
Post-etch residue removal using choline chloride-malonic acid deep eutectic solvent (DES)
著者 (3件):
TAUBERT Jenny
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ, USA)
,
KESWANI Manish
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ, USA)
,
RAGHAVAN Srini
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Arizona, Tucson, AZ, USA)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
102
ページ:
81-86
発行年:
2013年02月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)