文献
J-GLOBAL ID:201302224220383210
整理番号:13A1165633
様々なパターン密度を持つサブ100nmパターンのためのスピンコート膜を用いた紫外ナノインプリンティングにおける均一残留層生成
Uniform Residual Layer Creation in Ultraviolet Nanoimprint Using Spin Coat Films for Sub-100-nm Patterns with Various Pattern Densities
著者 (10件):
SUZUKI Kenta
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
SUZUKI Kenta
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SUZUKI Kenta
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
,
YOUN Sung-Won
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
YOUN Sung-Won
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
,
WANG Qing
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
WANG Qing
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
,
HIROSHIMA Hiroshi
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
HIROSHIMA Hiroshi
(JST-CREST, Tokyo, JPN)
,
NISHIOKA Yasuhiro
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
52
号:
6,Issue 2
ページ:
06GJ06.1-06GJ06.6
発行年:
2013年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)