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文献
J-GLOBAL ID:201302229930068871   整理番号:13A1165617

GaAsの負性電子親和力表面形成プロセスの表面光吸収によるin situ観測

In situ Observation of Formation Process of Negative Electron Affinity Surface of GaAs by Surface Photo-Absorption
著者 (8件):
HAYASE Kazuya
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
NISHITANI Tomohiro
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
NISHITANI Tomohiro
(RIKEN, Saitama, JPN)
SUZUKI Katsunari
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
IMAI Hironobu
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
HASEGAWA Jun-ichi
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
NAMBA Daiki
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
MEGURO Takashi
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 52  号: 6,Issue 2  ページ: 06GG05.1-06GG05.3  発行年: 2013年06月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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