文献
J-GLOBAL ID:201302232836010127
整理番号:13A0229134
c面サファイア基板上でMOCVDを使用することによって成長したPtナノクラスタを有するInGaN/GaNエピタキシャル層の微細構造キャラクタリゼーション
Microstructural Characteristization of InGaN/GaN Epitaxial Layers with Pt Nanoclusters Grown by Using MOCVD on c-plane Sapphire Substrates
著者 (5件):
WAN Zhixin
(Changwon National Univ., Changwon, KOR)
,
HE Yinsheng
(Changwon National Univ., Changwon, KOR)
,
SHIN Keesam
(Changwon National Univ., Changwon, KOR)
,
CHOI Cheljong
(Chonbuk National Univ., Jeonju, KOR)
,
SUH Eunkyung
(Chonbuk National Univ., Jeonju, KOR)
資料名:
Journal of the Korean Physical Society
(Journal of the Korean Physical Society)
巻:
61
号:
8
ページ:
1283-1286
発行年:
2012年10月31日
JST資料番号:
T0357A
ISSN:
0374-4884
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
韓国 (KOR)
言語:
英語 (EN)