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文献
J-GLOBAL ID：201302237307881009
整理番号：13A1079368
Si(100)表面への水素吸着と脱着の動力学
Kinetics of hydrogen adsorption and desorption on Si(100) surfaces
NARITA Yuzuru
(Dep. of Electrical Engineering, Yamagata Univ., 4-3-16 Jonan, Yonezawa-shi, Yamagata 992-8510, JPN)
,
INANAGA Shoji
(Dep. of Electrical and Electronics Engineering, Kyushu Inst. of Technol. 1-1 Sensui-cho, Tobata-ku, Kitakyushu-shi ...)
,
NAMIKI Akira
(Dep. of Electrical and Electronics Engineering, Kyushu Inst. of Technol. 1-1 Sensui-cho, Tobata-ku, Kitakyushu-shi ...)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 113 号： 23 ページ： 234309-234309-8 発行年： 2013年06月21日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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