文献
J-GLOBAL ID:201302237670625324
整理番号:13A1165606
リン溶液のエキシマーレーザの照射による4H-SiCへのリンドーピング
Phosphorus Doping into 4H-SiC by Iradiation of Excimer Laser in Phosphoric Solution
著者 (4件):
NISHI Koji
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
IKEDA Akihiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
IKENOUE Hiroshi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ASANO Tanemasa
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
52
号:
6,Issue 2
ページ:
06GF02.1-06GF02.4
発行年:
2013年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)