文献
J-GLOBAL ID:201302239566958187
整理番号:13A0228961
精密にプロセス制御した同時スパッタリングによるNbドープTiO2膜の大面積蒸着
Deposition of Nb-Doped TiO2 Films on Large Area by Co-Sputtering with Precise Process Control
著者 (2件):
FIETZKE F.
(Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU)
,
JUNGHAEHNEL M.
(Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU)
資料名:
Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters
(Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻:
55th
ページ:
547-551
発行年:
2012年
JST資料番号:
E0063B
ISSN:
0737-5921
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)