文献
J-GLOBAL ID:201302242150987685
整理番号:13A0752875
面外異方性を有するCo/Ni多層における電流誘起磁壁運動の厚さ依存性
Thickness dependence of current-induced domain wall motion in a Co/Ni multi-layer with out-of-plane anisotropy
著者 (6件):
TANIGAWA Hironobu
(Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN)
,
SUZUKI Tetsuhiro
(Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN)
,
FUKAMI Shunsuke
(Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., Sendai, Miyagi 980-8577, JPN)
,
SUEMITSU Katsumi
(Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN)
,
OHSHIMA Norikazu
(Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN)
,
KARIYADA Eiji
(Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
102
号:
15
ページ:
152410-152410-4
発行年:
2013年04月15日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)