文献
J-GLOBAL ID:201302242546518475
整理番号:13A0052726
ソフト・ナノエレクトロニクスのためのナノスケールの抵抗材料Cu2Oのダイレクトパターニング
Direct Patterning of Nanoscale Cu2O Resistive Material for Soft Nanoelectronics
著者 (4件):
HONG Sung-Hoon
(Univ. Pennsylvania, PA, USA)
,
CHO Joong-Yeon
(Korea Univ., Seoul, KOR)
,
YANG Ki-Yeon
(Samsung Advanced Inst. Technol., Gyeonggi, KOR)
,
LEE Heon
(Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
5
号:
12
ページ:
126501.1-126501.3
発行年:
2012年12月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)