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文献
J-GLOBAL ID：201302243507377194
整理番号：13A0988551
平滑で化学量論的GaN表面を保持するための高温窒素プラスマエッチング
A High-Temperature Nitrogen Plasma Etching for Preserving Smooth and Stoichiometric GaN Surface
KOMETANI Ryosuke
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
ISHIKAWA Kenji
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKEDA Keigo
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
KONDO Hiroki
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SEKINE Makoto
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HORI Masaru
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 6 号： 5 ページ： 056201.1-056201.4 発行年： 2013年05月25日
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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