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文献
J-GLOBAL ID：201302247575577768
整理番号：13A1087224
Si上の高k/メタルゲート積層におけるAl遠隔掃気による二酸化シリコン界面層の4.6ÅEOTまでの低減
Reduction of silicon dioxide interfacial layer to 4.6Å EOT by Al remote scavenging in high-κ/metal gate stacks on Si
NICHAU A.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
NICHAU A.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
SCHAEFER A.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
SCHAEFER A.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
KNOLL L.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
KNOLL L.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
WIRTHS S.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
WIRTHS S.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
SCHRAM T.
(imec, 3001 Leuven, BEL)
,
RAGNARSSON L.-a.
(imec, 3001 Leuven, BEL)
,
SCHUBERT J.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
SCHUBERT J.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
BERNARDY P.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
BERNARDY P.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
LUYSBERG M.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
LUYSBERG M.
(Peter Gruenberg Inst. 5 and Ernst Ruska-Centre (ER-C) for Microscopy and Spectroscopy with Electrons ...)
,
BESMEHN A.
(Central Div. for Engineering, Electronics and Analytics (ZEA-3), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
BREUER U.
(Central Div. for Engineering, Electronics and Analytics (ZEA-3), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
BUCA D.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
BUCA D.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
,
MANTL S.
(Peter Gruenberg Inst. 9 (PGI9-IT), Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, DEU)
,
MANTL S.
(JARA - Fundamentals of Future Information Technologies, DEU)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 109 ページ： 109-112 発行年： 2013年09月
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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