文献
J-GLOBAL ID:201302249503063134
整理番号:13A1758355
インラインE-ビームウエハ計測および欠陥検査:イメージに基づく限界寸法計測時代の終わり?欠陥検査の新しい時代
In-line E-beam Wafer Metrology and Defect Inspection: The End of an Era for Image-based Critical Dimensional Metrology? New life for Defect Inspection
著者 (10件):
SOLECKY Eric
(IBM Systems and Technol. Group, NY)
,
PATTERSON Oliver D.
(IBM Systems and Technol. Group, NY)
,
STAMPER Andrew
(IBM Systems and Technol. Group, NY)
,
MCLELLAN Erin
(IBM Albany Nanotech, NY)
,
BUENGENER Ralf
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
VAID Alok
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
HARTIG Carsten
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
BUNDAY Benjamin
(SEMATECH, NY, USA)
,
ARCEO Abraham
(SEMATECH, NY, USA)
,
CEPLER Aron
(SEMATECH, NY, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8681
号:
Pt.1
ページ:
86810D.1-86810D.19
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
解説
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)