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文献
J-GLOBAL ID:201302249962698436   整理番号:13A1195572

表面活性化ボンディング利用低抵抗Si/III-V接合

Surface-activating-bonding-based low-resistance Si/III-V junctions
著者 (4件):
LIANG J.
(Osaka City Univ., Osaka, JPN)
NISHIDA S.
(Osaka City Univ., Osaka, JPN)
MORIMOTO M.
(Osaka City Univ., Osaka, JPN)
SHIGEKAWA N.
(Osaka City Univ., Osaka, JPN)

資料名:
Electronics Letters  (Electronics Letters)

巻: 49  号: 13  ページ: 830-832  発行年: 2013年06月20日 
JST資料番号: A0887A  ISSN: 0013-5194  CODEN: ELLEAK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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