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文献
J-GLOBAL ID：201302250549032770
整理番号：13A1087909
Effect of hydrogen atmosphere in Cu thin film growth by chemical vapor deposition using Cu(dmamb)2
CHOI Jong Mun
(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
,
LEE Dohan
(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
,
PARK Ji Hun
(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
,
KIM Chang Gyoun
(Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR)
,
CHUNG Taek-mo
(Advanced Materials Div., Korea Res. Inst. of Chemical Technol., Daejeon 305-600, KOR)
,
KIM Baek-mann
(R&D Div., Hynix Semiconductor Inc., Icheon 467-701, KOR)
,
BYUN Dongjin
(Material Sci. and Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
,
BYUN Dongjin
(Nano Semiconductor Engineering, Korea Univ., Seoul 136-713, KOR)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 89 ページ： 109-115 発行年： 2012年01月
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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