文献
J-GLOBAL ID:201302254865240259
整理番号:13A0048478
化学蒸着によりガラス上に蒸着したポリシリコン薄膜の特性化
Characterization of thin polycrystalline silicon films deposited on glass by CVD
著者 (7件):
BENVENUTO A G
(CONICET-UNL, Santa Fe, ARG)
,
BUITRAGO R H
(CONICET-UNL, Santa Fe, ARG)
,
BUITRAGO R H
(Facultad de Ingenieria Quimica, Santa Fe, ARG)
,
BHADURI A
(Lab. de Genie Electrique de Paris, CNRS, Gif sur Yvette, FRA)
,
LONGEAUD C
(Lab. de Genie Electrique de Paris, CNRS, Gif sur Yvette, FRA)
,
SCHMIDT J A
(CONICET-UNL, Santa Fe, ARG)
,
SCHMIDT J A
(Facultad de Ingenieria Quimica, Santa Fe, ARG)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
27
号:
12
ページ:
125013,1-5
発行年:
2012年12月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)