文献
J-GLOBAL ID:201302258563049601
整理番号:13A1567208
rfマグネトロンスパッタリングでSi基板に蒸着したZnO:Al膜の構造的研究
Structural investigation of ZnO:Al films deposited on the Si substrates by radio frequency magnetron sputtering
著者 (4件):
CHEN Y.y.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan, TWN)
,
YANG J.r.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617, Taiwan, TWN)
,
CHENG S.l.
(Dep. of Chemical and Materials Sci. Engineering, National Central Univ., Jong-li 32001, Taiwan, TWN)
,
SHIOJIRI M.
(Kyoto Inst. of Technol., Kyoto 606-8585, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
545
ページ:
183-187
発行年:
2013年10月31日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)