文献
J-GLOBAL ID:201302259905984622
整理番号:13A1763528
CoFeB/MgO磁気トンネル接合のキャップ層としてのTa-NならびにTi-N薄膜の作製
Preparation of Ta-N and Ti-N Thin Films as a Capping Layer of CoFeB/MgO Magnetic Tunnel Junctions
著者 (3件):
杉原敦
(大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻)
,
大崎創一郎
(大阪大学工学部応用理工学科)
,
中谷亮一
(大阪大学大学院工学研究科マテリアル生産科学専攻)
資料名:
日本金属学会誌
(Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻:
77
号:
9
ページ:
398-401 (J-STAGE)
発行年:
2013年
JST資料番号:
G0023A
ISSN:
0021-4876
CODEN:
NIKGAV
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)