文献
J-GLOBAL ID:201302260920731399
整理番号:13A1320000
VHF PECVDプロセスを用いた非晶質から極ナノ結晶性ケイ素膜成長へのアルゴン希釈による影響
Influence of argon dilution on the growth of amorphous to ultra nanocrystalline silicon films using VHF PECVD process
著者 (7件):
GOPE Jhuma
(Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...)
,
GOPE Jhuma
(Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND)
,
KUMAR Sushil
(Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...)
,
SUDHAKAR S.
(Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...)
,
LODHI Kalpana
(Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...)
,
RAUTHAN C.m.s.
(Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...)
,
SRIVASTAVA P.c.
(Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
577
ページ:
710-716
発行年:
2013年11月15日
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)