文献
J-GLOBAL ID:201302261659683655
整理番号:13A0350990
大きなアルゴンクラスターArn+,C60+およびCs+スパッタリングイオンを用いた多層アミノ酸膜のTOF-SIMS深さプロファイリング:比較研究
TOF-SIMS depth profiling of multilayer amino-acid films using large Argon cluster Arn+, C60+ and Cs+ sputtering ions: A comparative study
著者 (9件):
WEHBE N.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
TABARRANT T.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
BRISON J.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
MOUHIB T.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
DELCORTE A.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
BERTRAND P.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
MOELLERS R.
(ION-TOF GmbH, Muenster, DEU)
,
NIEHUIS E.
(ION-TOF GmbH, Muenster, DEU)
,
HOUSSIAU L.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
資料名:
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻:
45
号:
1
ページ:
178-180
発行年:
2013年01月
JST資料番号:
E0709A
ISSN:
0142-2421
CODEN:
SIANDQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)