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文献
J-GLOBAL ID：201302261659683655
整理番号：13A0350990
大きなアルゴンクラスターArn+,C60+およびCs+スパッタリングイオンを用いた多層アミノ酸膜のTOF-SIMS深さプロファイリング:比較研究
TOF-SIMS depth profiling of multilayer amino-acid films using large Argon cluster Arn+, C60+ and Cs+ sputtering ions: A comparative study
WEHBE N.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
TABARRANT T.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
BRISON J.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
,
MOUHIB T.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
DELCORTE A.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
BERTRAND P.
(Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
,
MOELLERS R.
(ION-TOF GmbH, Muenster, DEU)
,
NIEHUIS E.
(ION-TOF GmbH, Muenster, DEU)
,
HOUSSIAU L.
(Univ. Namur, Namur, BEL)
資料名：
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻： 45 号： 1 ページ： 178-180 発行年： 2013年01月
JST資料番号： E0709A ISSN： 0142-2421 CODEN： SIANDQ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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