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文献
J-GLOBAL ID：201302261880637617
整理番号：13A0827831
フォノン閉込め効果の表面方位/歪み依存性および二次元Si層内のバンド構造変調に関する実験的研究
Experimental Study on Surface-Orientation/Strain Dependence of Phonon Confinement Effects and Band Structure Modulation in Two-Dimensional Si Layers
MIZUNO Tomohisa
(Kanagawa Univ., Kanagawa, JPN)
,
AOKI Takashi
(Kanagawa Univ., Kanagawa, JPN)
,
NAGATA Yuhsuke
(Kanagawa Univ., Kanagawa, JPN)
,
NAKAHARA Yuhta
(Kanagawa Univ., Kanagawa, JPN)
,
SAMESHIMA Toshiyuki
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 52 号： 4,Issue 2 ページ： 04CC13.1-04CC13.8 発行年： 2013年04月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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