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文献
J-GLOBAL ID：201302262030624458
整理番号：13A1590667
Hall測定用のビスマスナノワイヤ上のOhm接触電極の作製のための集束イオンビーム処理
Focused ion beam processing to fabricate ohmic contact electrodes on a bismuth nanowire for Hall measurements
MURATA Masayuki
(Saitama Univ., 255 Shimo-okubo, Sakura-ku, 338-8570, Saitama, JPN)
,
MURATA Masayuki
(Japan Soc. for the Promotion of Sci., Tokyo, JPN)
,
HASEGAWA Yasuhiro
(Saitama Univ., 255 Shimo-okubo, Sakura-ku, 338-8570, Saitama, JPN)
資料名：
Nanoscale Research Letters (Web)
(Nanoscale Research Letters (Web))
巻： 8 号： 1 ページ： 1-10 発行年： 2013年12月
JST資料番号： U7001A ISSN： 1931-7573 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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