文献
J-GLOBAL ID:201302262076681804
整理番号:13A0415692
ケイ素が過剰なシリカにおけるケイ素拡散とケイ素ナノ粒子の成長に対する過飽和の影響
Influence of the supersaturation on Si diffusion and growth of Si nanoparticles in silicon-rich silica
著者 (4件):
ROUSSEL M.
(Groupe de Physique des Materiaux (GPM) UMR 6634, Normandie Univ., Univ. et INSA de Rouen-CNRS, Av. de l’Universite ...)
,
TALBOT E.
(Groupe de Physique des Materiaux (GPM) UMR 6634, Normandie Univ., Univ. et INSA de Rouen-CNRS, Av. de l’Universite ...)
,
PAREIGE P.
(Groupe de Physique des Materiaux (GPM) UMR 6634, Normandie Univ., Univ. et INSA de Rouen-CNRS, Av. de l’Universite ...)
,
GOURBILLEAU F.
(Centre de Rech. sur les Ions, les Materiaux et la Photonique (CIMAP), CEA/CNRS/ENSICAEN/UCBN, 6 Bd. Marechal Juin ...)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
113
号:
6
ページ:
063519-063519-7
発行年:
2013年02月14日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)