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文献
J-GLOBAL ID：201302262510498380
整理番号：13A1558990
高スループットロール・ツー・ロール紫外ナノインプリントリソグラフィーによる高アスペクト比パターンの作製
Fabrication of high-aspect-ratio pattern via high throughput roll-to-roll ultraviolet nanoimprint lithography
YOSHIKAWA Hiroshi
(Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)
,
TANIGUCHI Jun
(Dep. of Applied Electronics, Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, JPN)
,
TAZAKI Go
(Tsukuba Res. Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, JPN)
,
ZENTO Toshiyuki
(Tsukuba Res. Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, JPN)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 112 ページ： 273-277 発行年： 2013年12月
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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