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J-GLOBAL ID：201302262801912612 整理番号：13A1812899

平坦欠陥無し表面を自動取得するためのon-axis Si面6H-SiCウエハの化学機械研磨(CMP)

Chemical mechanical polishing (CMP) of on-axis Si-face 6H-SiC wafer for obtaining atomically flat defect-free surface

著者 (12件)：

PAN Guoshun

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

PAN Guoshun

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

,

ZHOU Yan

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

ZHOU Yan

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

,

LUO Guihai

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

LUO Guihai

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

,

SHI Xiaolei

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

SHI Xiaolei

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

,

ZOU Chunli

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

ZOU Chunli

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

,

GONG Hua

(Tsinghua Univ., State Key Lab. of Tribology, 100084, Beijing, CHN)

,

GONG Hua

(Res. Inst. of Tsinghua Univ. in Shenzhen, Shenzhen Key Lab. of Micro/Nano Manufacturing, 518057, Shenzhen, CHN)

資料名：

Journal of Materials Science. Materials in Electronics (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)

巻： 24 号： 12 ページ： 5040-5047 発行年： 2013年12月
JST資料番号： W0003A ISSN： 0957-4522 CODEN： JMTSAS 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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