文献
J-GLOBAL ID:201302263124727508
整理番号:13A1600765
注入シリコン・ドーパント分布の解析
Analysis of implanted silicon dopant profiles
著者 (6件):
PROSA T.J.
(Cameca Instruments Inc., WI, USA)
,
OLSON D.
(Cameca Instruments Inc., WI, USA)
,
GEISER B.
(Cameca Instruments Inc., WI, USA)
,
LARSON D.J.
(Cameca Instruments Inc., WI, USA)
,
HENRY K.
(National Inst. of Standards and Technol., MD, USA)
,
STEEL E.
(National Inst. of Standards and Technol., MD, USA)
資料名:
Ultramicroscopy
(Ultramicroscopy)
巻:
132
ページ:
179-185
発行年:
2013年09月
JST資料番号:
W0972A
ISSN:
0304-3991
CODEN:
ULTRD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)