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文献
J-GLOBAL ID：201302264096441721
整理番号：13A0975107
イオン打込みによるBaSi2エピタキシャル膜の燐ドーピングに対する構造の研究
Structural study on phosphorus doping of BaSi2 epitaxial films by ion implantation
HARA K.o.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
HARA K.o.
(Core Res. for Evolutional Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, Gobancho, Chiyoda, Tokyo 102-0076, JPN)
,
HOSHI Y.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
USAMI N.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
USAMI N.
(Core Res. for Evolutional Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, Gobancho, Chiyoda, Tokyo 102-0076, JPN)
,
SHIRAKI Y.
(Advanced Res. Laboratories, Tokyo City Univ., 8-15-1 Todoroki, Setagaya, Tokyo 158-0082, JPN)
,
NAKAMURA K.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennohdai, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
TOKO K.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennohdai, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
SUEMASU T.
(Core Res. for Evolutional Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, Gobancho, Chiyoda, Tokyo 102-0076, JPN)
,
SUEMASU T.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, 1-1-1 Tennohdai, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 534 ページ： 470-473 発行年： 2013年05月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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