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文献
J-GLOBAL ID：201302264561004147
整理番号：13A0228914
拡張した面積へのイオン支援堆積のための高イオン電流密度プラズマ源
High Ion Current Density Plaska Source for Ion Assisted Deposition Over Extended Areas
GIBSON D.
(Thin Film Solutions Ltd., Glasgow, GBR)
,
WADDELL E.
(Thin Film Solutions Ltd., Glasgow, GBR)
,
PLACIDO F.
(Univ. West of Scotland, Paisley, GBR)
,
CHILD D.
(Univ. West of Scotland, Paisley, GBR)
資料名：
Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters
(Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 55th ページ： 305-310 発行年： 2012年
JST資料番号： E0063B ISSN： 0737-5921 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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