文献
J-GLOBAL ID:201302265510916334
整理番号:13A1749117
負階調化学増幅フラーレンレジストのEUVリソグラフィー性能
EUV lithography performance of negative-tone chemically amplified fullerene resist
著者 (6件):
FROMMHOLD A.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
YANG D.X.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
MCCLELLAND A.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
XUE X.
(Nano-C Inc., MA, USA)
,
PALMER R.E.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
,
ROBINSON A.P.G.
(Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8682
ページ:
86820Q.1-86820Q.6
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)