文献
J-GLOBAL ID:201302265591879462
整理番号:13A1418981
X線光電子分光により研究したInAlN表面に及ぼす化学処理及び超薄Al2O3堆積の効果
Effects of Chemical Treatments and Ultrathin Al2O3 Deposition on InAlN Surface Investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy
著者 (2件):
AKAZAWA Masamichi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
NAKANO Takuma
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
52
号:
8,Issue 2
ページ:
08JN23.1-08JN23.3
発行年:
2013年08月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)