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文献
J-GLOBAL ID:201302266657563620   整理番号:13A1944148

a-Si:H/c-Siヘテロ接合太陽電池のための高透過率及び高仕事関数のRFマグネトロンスパッタリング作製酸化インジウム錫薄膜

RF magnetron sputtered indium tin oxide films with high transmittance and work function for a-Si:H/c-Si heterojunction solar cells
著者 (9件):
HUSSAIN Shahzada Qamar
(Dep. of Energy Sci., Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
HUSSAIN Shahzada Qamar
(Dep. of Physics, COMSATS Inst. of Information and Technol., Lahore 54000, PAK)
OH Woong-kyo
(Coll. of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
AHN Shihyun
(Coll. of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
LE Anh Huy Tuan
(Coll. of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
KIM Sunbo
(Dep. of Energy Sci., Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
LEE Youngseok
(Dep. of Energy Sci., Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
YI Junsin
(Dep. of Energy Sci., Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
YI Junsin
(Coll. of Information and Communication Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)

資料名:
Vacuum  (Vacuum)

巻: 101  ページ: 18-21  発行年: 2014年03月 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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