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文献
J-GLOBAL ID：201302266826876624
整理番号：13A0474887
有機金属堆積の過程における競合反応:配位子交換と基板表面との直接反応
Competing reactions during metalorganic deposition: Ligand-exchange versus direct reaction with the substrate surface
LIN Jia-ming
(Dep. of Chemistry and Biochemistry, Univ. of Delaware, Newark, Delaware 19716)
,
TEPLYAKOV Andrew V.
(Dep. of Chemistry and Biochemistry, Univ. of Delaware, Newark, Delaware 19716)
,
RODRIGUEZ-REYES Juan Carlos F.
(Direccion de Investigacion, Universidad de Ingenieria y Tecnologia, Av. Cascanueces 2281, Santa Anita, Lima 43, Peru)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 31 号： 2 ページ： 021401-021401-17 発行年： 2013年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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