文献
J-GLOBAL ID:201302271720536003
整理番号:13A1899436
蒸発により堆積したCaF2薄膜中のEu2+イオンによるPr3+イオンの増感
Sensitization of Pr3+ ions by Eu2+ ions in CaF2 thin films deposited by evaporation
著者 (8件):
GUILLE A.
(Inst. Lumiere Matiere, Univ. Lyon 1, CNRS UMR 5306, Univ. de Lyon, F.69622 Villeurbanne, FRA)
,
PEREIRA A.
(Inst. Lumiere Matiere, Univ. Lyon 1, CNRS UMR 5306, Univ. de Lyon, F.69622 Villeurbanne, FRA)
,
BENSALAH-LEDOUX A.
(Inst. Lumiere Matiere, Univ. Lyon 1, CNRS UMR 5306, Univ. de Lyon, F.69622 Villeurbanne, FRA)
,
MOINE B.
(Inst. Lumiere Matiere, Univ. Lyon 1, CNRS UMR 5306, Univ. de Lyon, F.69622 Villeurbanne, FRA)
,
NOVOTNY M.
(Inst. of Physics, Acad. of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague, CZE)
,
BULIR J.
(Inst. of Physics, Acad. of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague, CZE)
,
FITL P.
(Inst. of Physics, Acad. of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague, CZE)
,
LANCOK J.
(Inst. of Physics, Acad. of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 182 21 Prague, CZE)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
114
号:
20
ページ:
203509-203509-4
発行年:
2013年11月28日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)