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J-GLOBAL ID：201302273329889727 整理番号：13A0487260

露光時間に関するエッチング測度の変化を利用した3D PTFE微細構造の製造

Fabrication of 3-D PTFE microstructures utilising change of etching rate with respect to exposure time

著者 (2件)：

HORADE Mitsuhiro

(Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, 464-8602, Nagoya, JPN)

SUGIYAMA Susumu

(Ritsumeikan Univ., 1-1-1 Noji-Higashi, 525-8577, Kusatsu, Shiga, JPN)

資料名：

Microsystem Technologies (Microsystem Technologies)

巻： 19 号： 3 ページ： 351-356 発行年： 2013年03月
JST資料番号： W2056A ISSN： 0946-7076 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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