文献
J-GLOBAL ID:201302275067898498
整理番号:13A0701917
立方晶SiCにおけるCl拡散の第一原理研究
First-principles study of Cl diffusion in cubic SiC
著者 (2件):
ALFIERI G.
(Dep. of Electronic Sci. and Engineering, Kyoto Univ., Kyotodaigaku-katsura, Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN)
,
KIMOTO T.
(Dep. of Electronic Sci. and Engineering, Kyoto Univ., Kyotodaigaku-katsura, Nishikyo, Kyoto 615-8510, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
113
号:
13
ページ:
133706-133706-5
発行年:
2013年04月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)