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文献
J-GLOBAL ID：201302275512955987
整理番号：13A0927956
Au触媒CH3SiH3パルスジェットCVDによるナノ結晶Siの形成
Formation of nanocrystalline Si by Au-catalyzed CH3SiH3 pulse jet CVD
ABE Toshiaki
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ANAN Shouhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
WATANABE Fumiya
(Univ. Arkansas at Little Rock, AR, USA)
,
TAKAHASHI Ryoji
(Ehime Univ., Matsuyama, JPN)
,
IKOMA Yoshifumi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 750 ページ： 244-247 発行年： 2013年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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