文献
J-GLOBAL ID:201302275512955987
整理番号:13A0927956
Au触媒CH3SiH3パルスジェットCVDによるナノ結晶Siの形成
Formation of nanocrystalline Si by Au-catalyzed CH3SiH3 pulse jet CVD
著者 (5件):
ABE Toshiaki
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ANAN Shouhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
WATANABE Fumiya
(Univ. Arkansas at Little Rock, AR, USA)
,
TAKAHASHI Ryoji
(Ehime Univ., Matsuyama, JPN)
,
IKOMA Yoshifumi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻:
750
ページ:
244-247
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0716B
ISSN:
0255-5476
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)