文献
J-GLOBAL ID:201302277031613880
整理番号:13A0701939
対数正規サイズ分布する自立シリコンナノ結晶の超高スループットプラズマプロセシング
Ultrahigh throughput plasma processing of free standing silicon nanocrystals with lognormal size distribution
著者 (8件):
DOGAN Ilker
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
KRAMER Nicolaas J.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
WESTERMANN Rene H. J.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
DOHNALOVA Katerina
(Van der Waals-Zeeman Inst., Univ. of Amsterdam, Sci. Park 904, 1098 XH Amsterdam, NLD)
,
SMETS Arno H. M.
(Photovoltaic Materials and Devices Lab., Delft Univ. of Technol., P.O. Box 5031, 2600 GA Delft, NLD)
,
VERHEIJEN Marcel A.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
,
GREGORKIEWICZ Tom
(Van der Waals-Zeeman Inst., Univ. of Amsterdam, Sci. Park 904, 1098 XH Amsterdam, NLD)
,
VAN DE SANDEN Mauritius C. M.
(Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
113
号:
13
ページ:
134306-134306-10
発行年:
2013年04月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)