文献
J-GLOBAL ID:201302277308528401
整理番号:13A1936997
パルス直流反応性マグネトロンスパッタリングにより蒸着したCrNx薄膜の特性に及ぼすデューティサイクルの影響
Effect of Duty Cycle on Characteristics of CrNx Thin Films Deposited by Pulsed Direct Current Reactive Magnetron Sputtering
著者 (6件):
CHANG Chi-Lung
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
,
WU Bo-Yi
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
,
CHEN Pin-Hung
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
,
CHEN Wei-Chih
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
,
HO Chun-Ta
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
,
WU Wan-Yu
(MingDao Univ., Changhua, TWN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
52
号:
11,Issue 2
ページ:
11NB08.1-11NB08.5
発行年:
2013年11月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)