文献
J-GLOBAL ID:201302277790650120
整理番号:13A1758457
干渉様リソグラフィーに特異なラインエッジ粗さ(LER)軽減の研究
Line edge roughness (LER) mitigation studies specific to interference-like lithography
著者 (4件):
BAYLAV Burak
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
ESTROFF Andrew
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
,
XIE Peng
(Applied Materials, CA, USA)
,
SMITH Bruce W.
(Rochester Inst. Technol., NY, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8683
ページ:
83831Y.1-83831Y.12
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)