文献
J-GLOBAL ID:201302279724382516
整理番号:13A0228886
回転式マグネトロンスパッタリングによる高い成膜速度でスパッタしたTiO2:Nbの最近の進展
Recent Developments of TiO2:Nb Sputtered with High Deposition Rates from a Rotatable Magnetron System
著者 (4件):
JUNGHAEHNEL M.
(Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU)
,
FIETZKE F.
(Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU)
,
VINNICHENKO M.
(Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Dresden, DEU)
,
CORNELIUS S.
(Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Dresden, DEU)
資料名:
Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters
(Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻:
55th
ページ:
157-161
発行年:
2012年
JST資料番号:
E0063B
ISSN:
0737-5921
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)