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文献
J-GLOBAL ID：201302280696166304
整理番号：13A1594032
Kelvinプローブ力顕微鏡によるBaSi2エピタキシャル膜における結晶粒界の近傍のポテンシャル変動の評価
Evaluation of potential variations around grain boundaries in BaSi2 epitaxial films by Kelvin probe force microscopy
BABA Masakazu
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
TSUREKAWA Sadahiro
(Graduate School of Sci. and Technol., Kumamoto Univ., Kumamoto 860-8555, JPN)
,
WATANABE Kentaro
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
DU W.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
TOKO Kaoru
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
HARA Kosuke O.
(Graduate School of Engineering, Nagoya Univ., Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, JPN)
,
USAMI Noritaka
(Graduate School of Engineering, Nagoya Univ., Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, JPN)
,
SEKIGUCHI Takashi
(National Inst. for Materials Sci., Ibaraki 305-0044, JPN)
,
SUEMASU Takashi
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 103 号： 14 ページ： 142113-142113-4 発行年： 2013年09月30日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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