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文献
J-GLOBAL ID：201302280793548289
整理番号：13A0235936
シリコン太陽電池用の逆ピラミッド作製におけるTMAHとKOHのエッチング特性の違い
Differences in etching characteristics of TMAH and KOH on preparing inverted pyramids for silicon solar cells
FAN Yujie
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
,
HAN Peide
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
,
LIANG Peng
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
,
XING Yupeng
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
,
YE Zhou
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
,
HU Shaoxu
(State Key Lab. on Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sciences, No. 35A Qinghua ...)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 264 ページ： 761-766 発行年： 2013年01月01日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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