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文献
J-GLOBAL ID：201302284870188636
整理番号：13A0083308
ヘテロエピタキシャル3C-SiC膜における配向依存応力緩和
Orientation-dependent stress relaxation in hetero-epitaxial 3C-SiC films
IACOPI Francesca
(Queensland Micro and Nanotechnology Centre, Griffith Univ., Nathan, 4111 QLD, AUS)
,
WALKER Glenn
(Queensland Micro and Nanotechnology Centre, Griffith Univ., Nathan, 4111 QLD, AUS)
,
WANG Li
(Queensland Micro and Nanotechnology Centre, Griffith Univ., Nathan, 4111 QLD, AUS)
,
MALESYS Laura
(Ecole d’Ingenieurs, Materiaux, Univ. de Bourgogne, Dijon, FRA)
,
MA Shujun
(Mechanical Engineering Dep., Univ. of Queensland, St. Lucia, 4072 QLD, AUS)
,
CUNNING Benjamin V.
(Queensland Micro and Nanotechnology Centre, Griffith Univ., Nathan, 4111 QLD, AUS)
,
IACOPI Alan
(Queensland Micro and Nanotechnology Centre, Griffith Univ., Nathan, 4111 QLD, AUS)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 102 号： 1 ページ： 011908-011908-4 発行年： 2013年01月07日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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