文献
J-GLOBAL ID:201302284875049065
整理番号:13A0826259
ステップアンド走査リソグラフィーのウエハ及びレチクルステージの同期制御戦略
Synchronous Control Strategy of Wafer and Reticle Stage of Step and Scan Lithography
著者 (5件):
LI Lanlan
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.)
,
LI Lanlan
(Graduate Univ., Chinese Acad. Sci.)
,
HU Song
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.)
,
ZHAO Lixin
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.)
,
MA Ping
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci.)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8418
ページ:
84180M.1-84180M.6
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)