文献
J-GLOBAL ID:201302285261283300
整理番号:13A0483968
マスクとして炭素硬マスク(CHM)によるCF4エッチングを用いた23nm直径ブロック共重合体自己集合ナノドットのパターン移動
Pattern Transfer of 23-nm-Diameter Block Copolymer Self-Assembled Nanodots Using CF4 Etching with Carbon Hard Mask (CHM) as Mask
著者 (5件):
HUDA Miftakhul
(Gunma Univ., Kiryu, JPN)
,
LIU Jing
(Gunma Univ., Kiryu, JPN)
,
BIN MOHAMAD Zulfakri
(Gunma Univ., Kiryu, JPN)
,
YIN You
(Gunma Univ., Kiryu, JPN)
,
HOSAKA Sumio
(Gunma Univ., Kiryu, JPN)
資料名:
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻:
737
ページ:
133-136
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0716B
ISSN:
0255-5476
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)