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文献
J-GLOBAL ID:201302285345795617   整理番号:13A0716445

高電流電界放出カソードについてのSiにおけるCNT微細構造の高さおよび接触界面の役割

Role of height and contact interface of CNT microstructures on Si for high current field emission cathodes
著者 (6件):
NAVITSKI A.
(Univ. of Wuppertal, Wuppertal, DEU)
SERBUN P.
(Univ. of Wuppertal, Wuppertal, DEU)
MUELLER G.
(Univ. of Wuppertal, Wuppertal, DEU)
JOSHI R. K.
(Technische Universitaet Darmstadt, Darmstadt, DEU)
ENGSTLER J.
(Technische Universitaet Darmstadt, Darmstadt, DEU)
SCHNEIDER J. J.
(Technische Universitaet Darmstadt, Darmstadt, DEU)

資料名:
European Physical Journal. Applied Physics  (European Physical Journal. Applied Physics)

巻: 59  号:ページ: 11302,1-11302,6  発行年: 2012年07月 
JST資料番号: B0655C  ISSN: 1286-0042  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: フランス (FRA)  言語: 英語 (EN)
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