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文献
J-GLOBAL ID：201302285405615710
整理番号：13A1936942
湿式エッチングの間のSi(111)上のキンク発生率と,ステップ流れ速度の評価
Evaluation of Kink Generation Rate and Step Flow Velocity on Si(111) during Wet Etching
HASUNUMA Ryu
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
YAMABE Kikuo
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 52 号： 11,Issue 1 ページ： 110127.1-110127.4 発行年： 2013年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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