文献
J-GLOBAL ID:201302285679678433
整理番号:13A0035632
NH3によるTiN原子層堆積に及ぼすアミドTi前駆体の影響
Effect of the amido Ti precursors on the atomic layer deposition of TiN with NH3
著者 (2件):
CHO Gihee
(Dep. of Chemical Engineering, System on Chip Chemical Process Res. Center, Pohang Univ. of Sci. and Technol. ...)
,
RHEE Shi-woo
(Dep. of Chemical Engineering, System on Chip Chemical Process Res. Center, Pohang Univ. of Sci. and Technol. ...)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
31
号:
1
ページ:
01A117-01A117-5
発行年:
2013年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)