文献
J-GLOBAL ID:201302286369603820
整理番号:13A1856979
対称的蛇行したNiFe/Cu/NiFe薄膜センサの製作と巨大磁気インピーダンスに対する磁界方向と膜厚の影響の検討
Fabrication of symmetrical meandering NiFe/Cu/NiFe film sensors and study of the effects of field direction and film thickness on giant magnetoimpedance
著者 (5件):
WANG Tao
(Shanghai Jiao Tong Univ., National Key Lab. of Sci. and Technol. on Nano/Micro Fabrication Technol., Res. Inst. of ...)
,
LEI Chong
(Shanghai Jiao Tong Univ., National Key Lab. of Sci. and Technol. on Nano/Micro Fabrication Technol., Res. Inst. of ...)
,
LEI Jian
(Shanghai Jiao Tong Univ., National Key Lab. of Sci. and Technol. on Nano/Micro Fabrication Technol., Res. Inst. of ...)
,
YANG Zhen
(Shanghai Jiao Tong Univ., National Key Lab. of Sci. and Technol. on Nano/Micro Fabrication Technol., Res. Inst. of ...)
,
ZHOU Yong
(Shanghai Jiao Tong Univ., National Key Lab. of Sci. and Technol. on Nano/Micro Fabrication Technol., Res. Inst. of ...)
資料名:
Microsystem Technologies
(Microsystem Technologies)
巻:
19
号:
12
ページ:
1945-1952
発行年:
2013年12月
JST資料番号:
W2056A
ISSN:
0946-7076
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)